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アイテム / エベロリムス薬剤溶出ステント留置後の圧着不良ストラットのベースラインとフォローアップの光干渉断層法による評価~HEAL-EESスタディのサブ解析 / 乙第1603号論文要旨
乙第1603号論文要旨
ファイル | ライセンス |
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公開日 | 2021-07-20 | |||||
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ファイル名 | 乙第1603号論文要旨.pdf | |||||
本文URL | https://kitasato.repo.nii.ac.jp/record/748/files/乙第1603号論文要旨.pdf | |||||
ラベル | 論文要旨 | |||||
オブジェクトタイプ | abstract | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 2.5 MB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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